plasmaimpax® und Pulsed Laser Deposition

Das patentierte plasmaimpax-Verfahren nutzt hochenergetische Teilchen und Hochspannungspulstechnik für Ionenimplantation und ionenunterstützte Beschichtung bei niedrigen Temperaturen. Ergänzend die gepulste Laserablation (PLD): kurzwelliges UV-Licht bringt das Targetmaterial in die Gasphase und als Schicht auf das Werkstück — mit Laserenergien bis 1 J je Puls und bis 300 Hz das flexibelste PVD-Verfahren.